1、基于電離電荷的采樣技術(shù)

真空度測(cè)量?jī)x均采用基于電離電荷的采樣技術(shù)。我公司專(zhuān)家在磁放電的研究中發(fā)現(xiàn)，在外激勵(lì)電源、真空滅弧室的幾何尺寸、所用材料一定時(shí)，真空滅弧室里的真空度與電離的電荷量有非常準(zhǔn)確的對(duì)應(yīng)關(guān)系，而與電離電流的峰值僅有概率上的相關(guān)性。因此，我公司首刨了基于電離電荷的采樣技術(shù)，顯著提高了真空滅弧室的真空度計(jì)量的準(zhǔn)確性。

2、漏電電流的處理

對(duì)處于分?jǐn)酄顟B(tài)的真空滅弧室兩端加高壓時(shí)，會(huì)有數(shù)值不等的幾個(gè)微安的漏電電流，此漏電電流即使是同型號(hào)的真空滅弧室也有較大的個(gè)體差異。尤其是對(duì)于裝在整機(jī)上的真空滅弧室，由于其周邊的絕緣支撐件也有漏電，這此漏電的總和有更大的不穩(wěn)定性和不可預(yù)測(cè)性，并且在數(shù)值上與10E- 4Pa 數(shù)量級(jí)的真空滅弧室的電離電流相當(dāng)。我們采用兩次起動(dòng)高壓的方法，扣除了漏電電流，保證了無(wú)論是裝于整機(jī)上還是待裝的真空滅弧室的真空計(jì)量精度。

3、內(nèi)置國(guó)內(nèi)外幾乎所有真空滅弧室的測(cè)量曲線

真空滅弧室由于其幾何尺寸、材料的不同，當(dāng)內(nèi)部真空度和外加激勵(lì)電源一定時(shí)，其放電電荷量是不同的，并且有相當(dāng)?shù)牟町?。為?zhǔn)確測(cè)量，對(duì)每一種真空滅弧室必須有對(duì)應(yīng)的從電離電荷量到真空度的推算曲線。我公司的專(zhuān)家通過(guò)與國(guó)內(nèi)主要真空滅弧室生產(chǎn)廠家的密切合作，取得了幾乎國(guó)內(nèi)外所有真空滅弧室的電離電荷和真空度關(guān)系的數(shù)據(jù)通過(guò)數(shù)學(xué)處理，將其特征參數(shù)送入該系列產(chǎn)品。因此，該系列產(chǎn)品內(nèi)置國(guó)內(nèi)外幾乎所有真空滅弧室的測(cè)量曲線。這是國(guó)內(nèi)外同類(lèi)產(chǎn)品中****的。

4、完善的輸入保護(hù)電路

當(dāng)真空滅弧室的真空度非常低時(shí)，測(cè)量時(shí)真空滅弧室會(huì)被高壓擊穿，瞬間的高壓直接加至信號(hào)輸入端的采樣電路上，使其承受十分強(qiáng)的電沖擊。該系列產(chǎn)品的信號(hào)輸入端的采樣電路增加了完備的保護(hù)電路，即使儀器由于輸入端的高壓沖擊而發(fā)生暫時(shí)工作不正常時(shí)（重新開(kāi)機(jī)即可），也不會(huì)造成電路部分的損壞。

 

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